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磁性材料真空蒸镀法的生长 澳门金沙娱乐平台
作者:admin 公布工夫:2018-11-06 11:33:09
磁性材料真空蒸镀法
       真空蒸镀法是日本的Kimoto正在1963年报讲的,基本原理是正在扭转的真空滚筒的底部放入含有表面活性剂的载液,跟着滚筒的扭转,正在其内表面上构成一层液体薄膜。将铁磁性金属到场置于滚筒中心部位的蒸发源,使之蒸发,金属气体正在液体薄膜中发作冷凝,冷凝后的粒径为2~10nm的铁磁性颗粒被液体膜捕获,跟着滚简的扭转再次进入载液内。滚筒继承扭转,由底部供应新的液体膜,云云重复制备成稳固的金属磁性液体。
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